由中国真空学会主办、云南师范大学与北京大学承办的中国真空学会 2016 学术年会将于2016年8月12-14 日在云南省昆明市举办。热切希望全体学会会员、理事及科研院所、企业同仁等踊跃撰稿，积极参加。

　　学术交流将采取多种形式：大会特邀报告，分会邀请报告，分会口头报告，张贴报告， 以及真空产品推介等。 会间将颁发 2016 年度 “中国真空科技成就奖” 和 “中国真空科技青年创新奖”，并评选“最佳张贴报告奖” 。

　　本次会议共分12个研究主题：

　　1. 真空科学与技术、真空工程；

　　2. 表面科学与技术；

　　3. 应用表面科学与技术；

　　4. 纳米科学与技术；

　　5. 纳米生物与生物界面；

　　6. 薄膜生长机理、制备技术和应用；

　　7. 真空获得与测量、质谱分析与检漏；

　　8. 真空冶金与表面工程；

　　9. 电子材料与器件、真空微电子学；

　　10. 等离子体物理与技术；

　　11. 显示技术；

　　12. 其它相关科学技术。

　　一、征文要求

　　1、本次学术会议欢迎与会者踊跃投稿，只需提交论文摘要(中、英文均可) ，网站上有摘要模版供下载编辑。

　　2、本次会议的摘要投稿采用网上进行，网站：www.cvsnet.org.cn，网站运行投稿时间为2016年2月，参会者需要先在网站上注册(免费) ，然后根据摘要模板撰写摘要，并依照网站上的提示提交摘要。

　　3、开会前将出版论文摘要集。为统一摘要格式，请采用网站提供的摘要模板编辑。

　　4、网上投稿时请务必提供报告人、所属的分会编号(大会邀请报告除外) 、以及报告类型等信息。

　　5、摘要是否被录用、以及报告类型的决定将在2016年7月份另行通知作者。

　　6、对于口头报告，会议准备有多媒体设备，但请自备 U 盘。张贴报告请行打印，尺寸：90cm× 120cm。

　　二、截稿日期

　　1、摘要截稿日期：2016年6月20日前。

　　2、摘要投稿过程中，如果遇到学术问题，请与所属分会的负责人联系。

　　3、摘要投稿过程中，如果遇到技术问题，请与中国真空网负责人联系。

　　会务组：中国真空学会办公室

　　地址：北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼612室

　　邮编：100022

　　电话：010-58208908/58208985 传真：58207735

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